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產(chǎn)品型號HZHP/CQUT USP系列
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更新時間：2023-08-24 13:15:27瀏覽次數(shù)：155次
聯(lián)系我時，請告知來自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)簡要描述：超聲霧化熱解噴涂（Ultrasonic Spray Pyrolysis，USP）是一種重要的薄膜材料制備方法。
超聲霧化熱解噴涂薄膜制備系統(tǒng)
HZHP/CQUT USP系列
超聲霧化熱解噴涂（Ultrasonic Spray Pyrolysis，USP）是一種重要的薄膜材料制備方法。這種方法的基本過程是：利用超聲波空化作用把特定成分和濃度的前驅(qū)體溶液霧化為粒徑微米量級的小液滴(通常超聲波工作頻率在MHz量級)，在一定流速載氣輸運(yùn)下前驅(qū)體氣溶膠到達(dá)加熱的襯底表面附近，膠體粒子發(fā)生熱分解后固態(tài)生成物沉積到襯底材料表面形成薄膜。
USP方法廣泛用于制備單元和多元氧化物、硫化物、氯化物薄膜材料，典型的薄膜材料如ZnO、TiO2、NiO、Al2O3、CdS、SnO2、ITO等等。這種方法的優(yōu)勢在于設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，不需要維持高真空環(huán)境，也不存在過高氣壓和等離子體的輔助，成膜襯底溫度低（通常不超過600℃），前驅(qū)體原材料容易獲取和準(zhǔn)備，成膜速度快，純度高，表面致密光滑等特點(diǎn)。特別值得一提的是，USP方法具有的工業(yè)在線連續(xù)生產(chǎn)兼容性，用此種方法開展*薄膜材料的性能研究，工業(yè)移植性強(qiáng)，從材料的實(shí)驗室研發(fā)到批量化生產(chǎn)的過渡周期短，綜合成本低。比如大面積平板玻璃表面熱電薄膜、防霧薄膜層、紅外發(fā)射層、環(huán)保功能瓷磚等連續(xù)工業(yè)化涂鍍。
HZHP/CQUT USP系列超聲霧化熱解噴涂薄膜制備系統(tǒng)匯集了重慶理工大學(xué)光伏新能源應(yīng)用技術(shù)與設(shè)備研究所科研人員多年研究成果。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，布局簡單緊湊，功能設(shè)置合理，電功耗低，操作方便且安全性高，是套面向高校和科研機(jī)構(gòu)使用的USP整機(jī)系統(tǒng)，它克服了工藝參數(shù)調(diào)整困難、重復(fù)性低，摻雜劑量可控性差，多元薄膜前驅(qū)體難以選擇，管道污染等諸多問題，而且實(shí)現(xiàn)了所有工藝參數(shù)的計算機(jī)化。上述系統(tǒng)已經(jīng)獲得國家發(fā)明（.7、.4、.8、 .7 、.6、.9、.7、.5、.6、.1），它非常適合大中專院校和科研機(jī)構(gòu)開展薄膜材料的制備和特性研究工作，也支持相關(guān)企業(yè)開展產(chǎn)品小試。
USP系列超聲霧化熱解噴涂設(shè)備由反應(yīng)室、襯底加熱與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、霧化室、霧化控制電路、載氣回路、尾氣回收回路、循環(huán)冷卻水系統(tǒng)和其他電控系統(tǒng)等幾個部分組成。
（1）反應(yīng)室是薄膜沉積生長的腔室，按照高真空反應(yīng)腔體標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計和加工，304不銹鋼材質(zhì)，具有雙層水冷結(jié)構(gòu)，外周配置有目視觀察窗、CCD連續(xù)監(jiān)控結(jié)構(gòu)，并預(yù)留有可擴(kuò)展功能的CF35法蘭接口。反應(yīng)室頂蓋采用電動提升方式開啟，也可以采用簡易的手動翻轉(zhuǎn)方式。反應(yīng)室內(nèi)壁可以加裝可拆卸聚四氟乙烯內(nèi)襯以保證足夠高的清潔度。
（1）霧化室是前驅(qū)體溶液形成霧滴氣溶膠的腔室，選用聚四氟乙烯材質(zhì)（可以選用不銹鋼材質(zhì)）加工，具有的載氣驅(qū)動和阻流匯流結(jié)構(gòu)及較短供料管路，較大限度的保證了進(jìn)入反應(yīng)室的前驅(qū)體氣溶膠霧滴尺寸分布均勻。恒溫隔離層不僅保證了霧化片處于恒定的工作溫度，而且避免了前驅(qū)體液體與霧化片的直接接觸導(dǎo)致的污染。精密的線陣CCD液位測量裝置保證了前驅(qū)體液位的恒定，從而保證了霧化量的恒定。
（2）多源獨(dú)立共聚焦結(jié)構(gòu)指多個霧化噴口沿著一個空間圓錐面均勻分布，圓錐定點(diǎn)恰好是襯底中心，圓錐底面與襯底平面平行。這種特殊的多霧化室及管路設(shè)計為多元薄膜制備、多層薄膜制備和摻雜提供了更高的可靠性、工藝重復(fù)性和靈活的前驅(qū)體源物質(zhì)選擇性，解決了多源共管道結(jié)構(gòu)導(dǎo)致的多種前驅(qū)體溶液相互反應(yīng)、干擾和污染的工藝問題；
考慮到用戶需求的特殊性，也提供可以支持2源的獨(dú)立多源共管道結(jié)構(gòu)裝置（兩個霧化源通過一個共用管道輸運(yùn)前驅(qū)體氣溶膠進(jìn)入反應(yīng)室，共用管道軸線垂直于襯底中心，兩個源可以相互獨(dú)立的或同時的工作）。
（3）噴霧口快門結(jié)構(gòu)設(shè)計保證了成膜過程的氣流穩(wěn)定性和時間控制的精確性。
（4）多室與快門聯(lián)動機(jī)構(gòu)使得USP制備不同成分的多層膜成為可能，多層膜工藝參數(shù)更加容易控制且重復(fù)性高；
（5）的尾氣回收設(shè)計避免了酸性或者堿性氣態(tài)或液態(tài)反應(yīng)物的自由擴(kuò)散和潛在的危險物質(zhì)泄漏，提高了實(shí)驗室的空氣質(zhì)量，也消除了發(fā)生其他爆炸、燃燒和中毒等危險的可能性。
（6）循環(huán)冷卻水系統(tǒng)通過強(qiáng)力水泵驅(qū)動維持系統(tǒng)工作的溫度環(huán)境，節(jié)省了寶貴的水資源。如果用戶對冷卻水溫度要求嚴(yán)格，也可以提供半導(dǎo)體強(qiáng)制制冷模塊，保證系統(tǒng)工作冷卻水溫度不高于室溫20-25℃。
由于科研工作的特殊性及要求的多樣性，USP系列超聲霧化熱解噴涂薄膜制備設(shè)備根據(jù)用戶不同的需求，有豐富的結(jié)構(gòu)、配置與功能選擇，其中霧化源數(shù)量較多可以達(dá)到6個。
HZHP/CQTU USP-II型是標(biāo)準(zhǔn)配置產(chǎn)品，系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù)如下：
反應(yīng)室：D340×H320，304不銹鋼，雙層水冷結(jié)構(gòu)，D80真空觀察窗，電動頂蓋提升，預(yù)留3-6個KF35接口供用戶選用，配置有CCD觀察預(yù)留接口，內(nèi)部霧化噴口采用獨(dú)立共聚焦模式。
襯底結(jié)構(gòu)：304不銹鋼襯底托，帶雙層熱輻射反射屏，襯底托可快速 拆卸，可旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可顯可調(diào)。Ω型碘鎢燈加熱，溫度范圍RT-650℃，控制精度優(yōu)于5%。提供熱電偶或紅外非接觸式兩種測溫方式。
可夾持襯底材料尺寸：較大φ65mm×10mm，質(zhì)量小于1kg。
霧化系統(tǒng)：聚四氟乙烯材質(zhì)，霧化頻率1.7MHz，功率可調(diào)可顯，前驅(qū)體溶液恒溫；
霧化腔體數(shù)量2，載氣流量、霧化功率獨(dú)立調(diào)節(jié)；
前驅(qū)體溶液自動供料，液位高度精密線陣CCD監(jiān)控，保證穩(wěn)定霧化量；
氣路系統(tǒng)：小型空氣壓縮機(jī)提供過濾空氣為載氣，配置有三路其它載氣接入管路和混氣室，支持用戶用瓶裝高壓氣體作為載氣。流量控制采用LZB-6玻璃浮子流量計；
冷卻系統(tǒng)：循環(huán)式冷卻系統(tǒng)，40L不銹鋼水箱，大功率泵驅(qū)動；
控制系統(tǒng)：關(guān)鍵操作電路具有自鎖功能，防止誤操作導(dǎo)致的設(shè)備損壞。配置有工藝參數(shù)控制文本顯示器，也可以采用計算機(jī)控制方式。
電 源：整機(jī)功率4-6Kw，380VAC 50Hz
其 他：機(jī)架采用4040工業(yè)鋁型材加工，美觀輕便牢固。整機(jī)外尺寸1700mm（L）×800mm（W）×1200mm（H，臺面距地面），下部配有高強(qiáng)度可移動支腳，方便移動。不銹鋼板操作臺面，美觀耐腐蝕。臺面配置有19寸液晶高清顯示器監(jiān)控反應(yīng)室內(nèi)薄膜生長過程。
占地面積2㎡，重量360-500kg；
1、為了更好的滿足用戶科研工作需要，本系統(tǒng)霧化室材質(zhì)可以選用304、316牌號不銹鋼，也可以加裝聚四氟乙烯防腐內(nèi)襯；
2、可以為企業(yè)用戶開發(fā)幅寬500mm以下連續(xù)在線噴涂設(shè)備，滿足如防霧薄膜、抗菌薄膜、微晶玻璃熱電薄膜材料的連續(xù)在線生產(chǎn)；
3、可以根據(jù)客戶需求提供大功率獨(dú)立超聲霧化源，霧流時間穩(wěn)定性優(yōu)于5%/2H，前驅(qū)體溶液溫度穩(wěn)定度優(yōu)于2.5℃/2H；
4、可以根據(jù)客戶需求，研制開發(fā)功能薄膜材料的前驅(qū)體溶液配方；
5、科研型設(shè)備沉底較大尺寸φ120mm×15mm，質(zhì)量小于5kg。
6、產(chǎn)品型號命名規(guī)則 HZHP/CQTU USP X-A B C/D,其中X、A、B、C和D為特征指標(biāo)。
| 特征 指標(biāo) | 說明 | 標(biāo)識指標(biāo)及含義 |
| X | 反應(yīng)室放置方式，其中臥式布局不配置電動升降機(jī)構(gòu) | V：立式 |
| H：臥式 | ||
| A | 前驅(qū)體氣溶膠輸運(yùn)管道的空間布局方式，共管道模式較多支持2個霧化源，共聚焦模式支持6個霧化源 | F：共聚焦模式 |
| P：共管道模式 | ||
| B | 霧化源數(shù)量，較少1個，較多6個 | I、II、…..VI |
| C | 其他輔助配置說明，具體根據(jù)用戶要求確定 | A→Z，根據(jù)用戶實(shí)際要求 |
| D | 工藝控制模式，人工手動與程控模式兩種 | M：人工操作模式 A：程控模式 |
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