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美國 那諾-馬斯特 NRE-3500 (A) 全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

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更新時(shí)間:2024-02-19 20:33:56瀏覽次數(shù):188次

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產(chǎn)品簡介

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述:獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持到12的晶圓片。

詳細(xì)介紹

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述:獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持到12"的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節(jié)流閥,一個(gè)250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過濾器,以及一個(gè)10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過600W,13.56MHz的電源和自動(dòng)調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以高達(dá)-500V.這對于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。

NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是基于PC控制的全自動(dòng)系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時(shí)顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時(shí)顯示.系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級,以及維護(hù)人員級.允許半自動(dòng)模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式), 和全自動(dòng)執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)。基于全自動(dòng)的控制,該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。

NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體

  • 不銹鋼立柜

  • 能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬

  • 典型的硅刻蝕速率,400 ?/min

  • 高達(dá)12"的陽極氧化鋁RF樣品臺

  • 水冷及加熱的RF樣品臺

  • 大的自偏壓

  • 淋浴頭氣流分布

  • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr級別

  • 渦輪分子泵

  • 最多支持5個(gè)MFC

  • 無繞曲氣體管路

  • 自動(dòng)下游壓力控制

  • 雙刻蝕能力:RIE以及PE刻蝕(可選)

  • 終點(diǎn)監(jiān)測

  • 氣動(dòng)升降頂蓋

  • 自動(dòng)上下載片

  • 預(yù)真空鎖

  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

  • 菜單驅(qū)動(dòng),4級密碼訪問保護(hù)

  • 的安全聯(lián)鎖

  • 可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺,用于深硅刻蝕

NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)產(chǎn)品型號:

  • NRE-4000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 44"W

  • NRE-3500:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W

  • NRE-3000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W

  • NRP-4000:RIE/PECVD雙系統(tǒng)

  • NDR-4000:深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)



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