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大塚電子（蘇州）有限公司

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顯微分光膜厚儀 OPTM series2

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產(chǎn)品簡介

●非接觸 · 非破壞 · 顯微、對焦、測量1秒完成 ●OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀，測試膜厚、折射率n、消光系數(shù)k、反射率的新型高精度、高性價(jià)比的分光膜厚儀。適用于各種可透光膜層的測試，并有可針對透明基板去除背面反射，從而達(dá)到“真實(shí)反射率、膜厚"測試的目的。此外，軟件操作簡單、使用方便且簡化了復(fù)雜的建模流程。...

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品特色

動畫

● 非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)

● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式

● 高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內(nèi)的反射率，可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）

● 單點(diǎn)對焦加量測在1秒內(nèi)完成

● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）

● 獨(dú)立測試頭對應(yīng)各種inline定制化需求

● 最小對應(yīng)spot約3μm

● 可針對超薄膜解析nk

量測項(xiàng)目

●反射率分析

●多層膜解析（50層）

●光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）

膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內(nèi)部反射的影響，無法正確測量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內(nèi)部反射，即使是透明基板也可以實(shí)現(xiàn)高精度測量。此外，對具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品，也可不受其影響，單獨(dú)測量上面的膜。

（編號第 5172203 號）
圖片1.png

應(yīng)用范圍

● 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體：硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料

● FPD：LCD、TFT、OLED（有機(jī)EL）

● 資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料

● 光學(xué)材料：濾光片、抗反射膜

● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED

● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等

規(guī)格式樣

（自動XY平臺型）

	OPTM-A1	OPTM-A2	OPTM-A3
波長范圍	230 ~ 800 nm	360 ~ 1100 nm	900 ~ 1600 nm
膜厚范圍	1nm ~ 35μm	7nm ~ 49μm	16nm ~ 92μm
測定時間	1秒 / 1點(diǎn)以內(nèi)
光徑大小	10μm (最小約3μm)
感光元件	CCD		InGaAs
光源規(guī)格	氘燈+鹵素?zé)?		鹵素?zé)?/span>
尺寸	556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動XY平臺型的主體部分)
重量	66kg（自動XY平臺型的主體部分）

OPTM 選型

圖片2.png 自動XY平臺型

圖片3.png 固定框架型

圖片4.png 嵌入頭型

波長與膜厚范圍

選型表

波長范圍	自動XY平臺型	固定框架型	嵌入頭型
230 ~ 800nm	OPTM-A1	OPTM-F1	OPTM-H1
360 ~ 1,100nm	OPTM-A2	OPTM-F2	OPTM-H2
900 ~ 1,600nm	OPTM-A3	OPTM-F3	OPTM-H3

物鏡

類型	倍率	測量光斑	視野范圍
反射對物型	10x lens	Φ 20μm	Φ 800μm
	20x lens	Φ 10μm	Φ 400μm
	40x lens	Φ 5μm	Φ 200μm
可視折射型	5x lens	Φ 40μm	Φ 1,600μm

量測案例

半導(dǎo)體行業(yè) - SiO2、SiN膜厚測定案例

企業(yè)微信截圖_16390434272220.png

半導(dǎo)體工藝中，SiO2用作絕緣膜，而SiN用作比SiO2更高介電常數(shù)的絕緣膜，或是用作CMP去除SiO2時的阻斷保護(hù)，之后SiN也被去除。絕緣膜的性能像這樣被使用時，為了精確的工藝控制，有必要測量這些膜厚度。

FPD行業(yè) - 彩色光阻膜厚測定

WPS圖片.jpeg

彩色濾光片薄膜的制程中，一般將彩色光阻涂布在整個玻璃表面，通過光刻進(jìn)行曝光顯影留下需要的圖案。RGB三色依次完成此工序。

彩色光阻的厚度不恒定是導(dǎo)致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因，因此對彩色光阻的膜厚管理非常重要。

FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造

ITO膜是液晶面板等使用的透明電極材料，制膜后需經(jīng)過退火處理(熱處理)提升導(dǎo)電性和透光性。此時，氧狀態(tài)和結(jié)晶性發(fā)生變化，使得膜厚產(chǎn)生階段性的傾斜變化。在光學(xué)上不能看作是構(gòu)成均一的單層膜。

對這樣的ITO用傾斜模式，由上部界面和下部界面的nk值，對傾斜程度進(jìn)行測量。

半導(dǎo)體行業(yè) – 使用界面系數(shù)測定粗糙基板上的膜厚

如果基板表面非鏡面且粗糙度大，則由于散射，測量光降低且測量的反射率低于實(shí)際值。

通過使用界面系數(shù)，因?yàn)榭紤]到了基板表面上的反射率的降低，可以測量出基板上薄膜的膜厚值。

DLC涂層行業(yè) – 各種用途DLC涂層厚度的測量

無標(biāo)題.png

DLC(類金剛石)涂層由于其高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征，被廣泛用于各種用途。

采用顯微光學(xué)系統(tǒng)，可以測量有形狀的樣品。此外，監(jiān)視器一邊確認(rèn)檢查測量位置一邊進(jìn)行測量的方式，可以用于分析異常原因。

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