通過對平行平面基板和楔形基板進行特殊的拋光,表面粗糙度控制在0.2nm(Ra)以下。
可以作為需要減少基板的散射影響的高能量激光用反射鏡或X線用反射鏡的基板使用。
楔形基板用于希望清除分光鏡等反面反射的影響時。
CaF2(氟化鈣),MgF2(氟化鎂)在紫外譜區(qū)和紅外譜區(qū)具有較高的透過性。
表面粗糙度(微觀的凹凸)和面型精度(面整體的平坦程度)都進行了高精度加工,基板接近理想平面。
通過對平行平面基板和楔形基板進行特殊的拋光,表面粗糙度控制在0.2nm(Ra)以下。
可以作為需要減少基板的散射影響的高能量激光用反射鏡或X線用反射鏡的基板使用。
楔形基板用于希望清除分光鏡等反面反射的影響時。
CaF2(氟化鈣),MgF2(氟化鎂)在紫外譜區(qū)和紅外譜區(qū)具有較高的透過性。
表面粗糙度(微觀的凹凸)和面型精度(面整體的平坦程度)都進行了高精度加工,基板接近理想平面。
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