
高溫?zé)崽幚砑訜釥t,由日本米倉(cāng)株式會(huì)社研發(fā)制造。加熱爐采用紅外集光加熱方式,通過(guò)收集光源紅外輻射,聚焦熱量至試樣處(均溫空間)對(duì)加熱對(duì)象加熱。該加熱爐加熱溫度1500℃,可對(duì)半導(dǎo)體材料進(jìn)行熱處理。大的加熱空間,也使得大試樣(70mm直徑)可以被直接加熱并觀察,而相對(duì)普通熱處理爐子的小體積,又節(jié)省了空間,可以方便的安裝/操作。
★ 潔凈觀察:觀察爐采用紅外集光方式加熱,即光學(xué)加熱,六光源急速加熱,且光源不會(huì)對(duì)試樣造成污染。加熱溫度1500℃;
★ 加熱速率高:高功率光源、高效率反射集光、體積小三個(gè)條件決定了可實(shí)現(xiàn)急速加熱冷卻、立體加熱效果、受熱均勻,熱臺(tái)加熱速度高達(dá)1500℃/min;
★ 體積小:與普通熱處理爐相比,IR-HP2體積小,節(jié)省空間。與以往機(jī)體體積大、設(shè)置場(chǎng)所受限制的情況相比,小型化的機(jī)體可在各種環(huán)境中使用,可方便實(shí)地安裝/操作;
★ 超大加熱空間:加熱空間大,可以實(shí)現(xiàn)大試樣(70mm直徑)的加熱以及觀察;
★ 溫度控制精度高;
★ 多氛圍:可以實(shí)現(xiàn)真空、大氣、惰性氣體和還原性氣體等多種氛圍環(huán)境;
★ 高真空度:真空度可以達(dá)到數(shù)Pa(由真空泵決定);
★ 清晰觀察:耐高溫石英玻璃,自動(dòng)吹掃,防止揮發(fā)物的附著、保持始終清晰的觀察效果;
★ 拓展應(yīng)用:可配備差熱、拉伸、壓縮、三點(diǎn)彎曲等功能,客戶可以根據(jù)需求改造應(yīng)用。
2、溫度控制器。
1、水冷循環(huán)器;
2、真空泵;
3、氣體凈化裝置。