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等離子清洗機(jī)PICO

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

等離子清洗機(jī)PICO 產(chǎn)品說(shuō)明： 5L——10.6 L精密型等離子清洗機(jī)PICO可以組合成不同的模塊系統(tǒng)，可以清洗所有類型的污染物及分解分子構(gòu)成的殘留污染物，增強(qiáng)材料表面的潤(rùn)濕性，是確保在涂漆、粘接、印刷或者鍵合時(shí)與結(jié)合配偶體粘附的前提條件。應(yīng)用領(lǐng)域： PICO也可用于各向異性和各向同性蝕刻。通過(guò)化學(xué)蝕刻進(jìn)行各向同性蝕刻，通過(guò)物理蝕刻進(jìn)行各向異性蝕刻。使用低壓等離子體，可以改良具有不同涂層的工件。在線咨詢

詳細(xì)介紹

設(shè)備：等離子清洗機(jī)PICO

銷售：

產(chǎn)品功能：

清洗：工藝部件的表面通過(guò)離子束的物理轟擊而被清洗，也可與特定氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)從而被清洗，清洗掉的工藝污染物轉(zhuǎn)化為氣相被排出。如：去除有機(jī)污染物，去除納米級(jí)微粒，去除氧化層

活化：工藝部件表面通過(guò)氧氣或空氣處理后，會(huì)在表面形成氧原子團(tuán)，這樣能使部件表面親水性和表面張力提高，能使涂料和粘接劑更好的附著于上，提高其的粘合力和附著力。如:PDMS鍵合，粘接前的預(yù)處理，涂裝前的預(yù)處理，印刷前的預(yù)處理。

蝕刻：工藝部件表面通過(guò)特定氣體達(dá)到精確濺射，表面材料被剝離，轉(zhuǎn)變成氣相被排出，濺射后的材料表面積增大并更易濕潤(rùn)，也使材料表面更粗糙化。通過(guò)改變工藝參數(shù)可使材料表面蝕刻出一定的形狀。如：硅蝕刻，PTFE/PFA/FEP蝕刻，光刻膠去除。

涂層：使工藝部件表面發(fā)生等離子聚合反應(yīng)，前驅(qū)單體導(dǎo)入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面，隨即發(fā)生聚合反應(yīng)，形成聚合物層。如：疏水層，親水層，保護(hù)/阻隔層，干潤(rùn)滑層，疏油層。

具體應(yīng)用：

• 去除部件封裝（半導(dǎo)體）
• 支架（牙醫(yī)）
•
• 傳感器
• 精密驅(qū)動(dòng)間
• 車大燈反射鏡
• 攝像頭
• 科研

主要技術(shù)參數(shù)

1.半自動(dòng)控制
2.根據(jù)工藝要求不同，可設(shè)定功率、壓強(qiáng)、氣體流量等參數(shù)
3.雙路工作氣體，氣體流量通過(guò)針型閥流量計(jì)控制
4.反應(yīng)艙為高硼硅玻璃腔體，直徑130mm 長(zhǎng)300 mm ，容積約為5L
5.發(fā)生器頻率40KHz功率0~200W
6.反射波自動(dòng)調(diào)節(jié)
7.電極材質(zhì)為鋁
8.運(yùn)行模式為手動(dòng)
9.配套真空泵的排氣能力為4m3/Hour，配有強(qiáng)制進(jìn)氣閥，國(guó)產(chǎn)飛越真空泵
10*配有壓力傳感器，可根據(jù)工藝要求設(shè)定壓力值
11.外尺寸：W560mm*D600mm*H460-860mm
12.電源電壓：?jiǎn)蜗郃C230V 16A

選配：

控制系統(tǒng)：全自動(dòng)PCCE控制/全自動(dòng)PC控制。

氣體：

氣體流量控制器MFC，多路氣體

腔體：

圓形不銹鋼，帶蓋（約 ∅ 150 mm，長(zhǎng) 320 mm 或長(zhǎng) 600 mm）
矩形不銹鋼，帶鉸鏈的門（約寬 160 mm x 高 160 mm x 深 325 mm 或 600 mm）
矩形鋁材，帶鉸鏈的門（約 ∅ 160 mm x 160 mm，長(zhǎng) 325 mm 或長(zhǎng) 600 mm）
圓形石英玻璃 (UHP)，配有蓋子或者帶鉸鏈的門（約 ∅ 130 mm，長(zhǎng) 300 mm 或長(zhǎng) 600 mm）
圓形硼硅玻璃 (UHP)，配有蓋子或者帶鉸鏈的門（約 ∅ 130 mm，長(zhǎng) 300 mm 或長(zhǎng) 600 mm）

托盤：

石英玻璃舟皿/粉末轉(zhuǎn)鼓/散裝件轉(zhuǎn)鼓/鋁板/不銹鋼板/硼硅玻璃/石英玻璃 /水冷型

壓力測(cè)量：

Pirani/電容式壓力計(jì)（適用于腐蝕性氣體版本）

發(fā)生器：

40 kHz： 0 - 200 W/0 -1000 W 100 kHz：0- 500 W 80 kHz：0- 1000 W 13.56 MHz： 0 - 100 W/ 300 W 2.45 GHz： 0 - 300 W

其他：

......

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