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聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)EDX-600能量色散X射線熒光光譜儀●美國(guó)原裝高靈敏電制冷Si(Pin)探測(cè)器●電制冷Si(Pin)探測(cè)器晶體面積15mm2分辨率●全數(shù)字脈沖處理器技術(shù)●優(yōu)異的峰背比、的痕量分析靈敏度●50KV,50瓦,自防護(hù)X-射線管●多濾光片智能識(shí)別技術(shù)●鍍層和薄膜測(cè)量技術(shù)●高性能
EDX-600能量色散X射線熒光光譜儀
●美國(guó)原裝高靈敏電制冷Si(Pin)探測(cè)器
●電制冷Si(Pin)探測(cè)器 晶體面積15mm2分辨率<155eV
●全數(shù)字脈沖處理器技術(shù)
●優(yōu)異的峰背比、的痕量分析靈敏度
● 50KV,50瓦,自防護(hù)X-射線管
●多濾光片智能識(shí)別技術(shù)
●鍍層和薄膜測(cè)量技術(shù)
●高性能，操作簡(jiǎn)便的XRF軟 件
主要特點(diǎn)
●分析元素范圍 Cl－Ｕ
●分析元素的濃度范圍 ppm—99%
●整機(jī)穩(wěn)定性連續(xù)8小時(shí)測(cè)RSD<0.25%
● RoHS/WEEE檢測(cè)時(shí)間100-120秒
●樣品類型： 固體，液體，粉末，鍍層及其他..
應(yīng)用領(lǐng)域：
●應(yīng)對(duì)RoHS & WEEE指令分 析
●各種金屬膜厚度測(cè)量、工業(yè)鍍層厚度測(cè)量
●鹵素指令Cl元素分析
●礦石、原材料成份分析等
●磁性磁性介質(zhì)和半導(dǎo)體，各種合 金、貴金屬成份分析
技術(shù)規(guī)格
| 儀器型號(hào) | EDX-600能量色散X射線熒光光譜儀 | |
| 分析原理 | 能量色散X射線熒光分析法 | |
| 分析范圍 | Na(11)-U(92)任意元素 | |
| 檢出下限 | Cl/Cd/Hg/Br/Cr/Pb≤2 ppm | |
| 樣品形狀 | 任意大小，任何不規(guī)則形狀 | |
| 樣品類型 | 塑膠/金屬/薄膜/粉末/液體等 | |
| X射線管 | 靶材 | 鉬（Mo）靶 |
| 管電壓 | 5─50KV | |
| 管電流 | 1─1000ｕA | |
| 探測(cè)器 | 美國(guó)AMP-TEK X-123 Si-PIN探測(cè)器，高速脈沖高度分析系統(tǒng) | |
| 高壓發(fā)生器 | 美國(guó)SPELLMAN高壓發(fā)生器 | |
| 濾光片 | 8種濾光片自動(dòng)選擇并自動(dòng)轉(zhuǎn)換 | |
| 樣品觀察 | 500萬(wàn)彩色攝像機(jī) | |
| 分析軟件 | 軟件產(chǎn)品 MS-V6.0版本，升級(jí) | |
| 分析方法 | Alpha系數(shù)法（NBS-GSC法）、FP法、標(biāo)準(zhǔn)曲線法 | |
| 符合規(guī)范 | IEC62321、 SNT 2003.4-2006 、SNT 2003.5-2006 | |
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